ASML的EUV垄断面临新竞争压力
TechCrunch AI··作者 Connie Loizos
关键信息
ASML表示，其EUV系统是目前唯一能够打印最先进芯片图案的设备，而且不同代际的机器单价大约在2亿美元到4亿美元以上。Fouquet认为，虽然新一代EUV工具前期更贵，但在先进制程层的晶圆制造成本上可以降低20%到30%。
资讯摘要
TechCrunch这篇报道聚焦于ASML这家荷兰公司，以及它如何通过制造先进AI芯片所必需的设备占据关键位置。文中提到，ASML已有42年历史，拥有约4.4万名员工，每年投入约45亿欧元进行技术研发。它的EUV光刻系统是全球唯一能够在硅片上打印最先进半导体所需微细图案的机器。这样的设备体型巨大，组装往往需要数月时间，还要依赖数百家供应商配合，而且单价约为2亿美元到4亿美元以上。
正是这种技术壁垒，让ASML成为欧洲市值最高的公司之一，市值超过5300亿美元。报道还把ASML的地位与AI热潮联系起来，指出微软、Meta、亚马逊和谷歌今年合计承诺投入超过6000亿美元用于AI基础设施。Fouquet表示，当前需求已经强到世界未来几年都可能面临芯片供不应求，而最直接的瓶颈在于芯片制造产能。与此同时，他也提到了竞争压力，包括初创公司Substrate尝试研发竞争性光刻机，以及有关中国部分逆向工程的报道，但他仍然对ASML的领先优势保持信心。
资讯正文
每次你使用 AI，在某种很小的程度上，你都在依赖一家有着 42 年历史、拥有 44,000 名员工的荷兰公司，而这家公司每年会投入 45 亿欧元来推动其技术进步。
ASML 总部位于荷兰，生产制造芯片的机器，而这些芯片又让 AI 成为可能。更具体地说，它制造的是世界上唯一能够在硅晶圆上打印决定最先进半导体的微观图案的机器——这一工艺被称为极紫外光刻，简称 EUV。这些机器大致有校车那么大，组装要花上数月时间，涉及数百家供应商，而且每台价格从 2 亿美元到超过 4 亿美元不等，具体取决于代际（这个价格偶尔也会让 ASML 最大的客户们都感到犹豫）。
这种垄断地位让 ASML 成为欧洲最有价值的公司，市值超过 5300 亿美元。而随着美国四大科技公司——微软、Meta、亚马逊和谷歌——仅在今年就承诺投入超过 6000 亿美元用于 AI 基础设施建设，对 ASML 机器的需求激增到了一个程度，以至于该公司公开表示，未来几年全球都不会有足够的芯片。
所有这些需求也让 ASML 成为了目标。由彼得·蒂尔门生创立的旧金山初创公司 Substrate 已融资超过 1 亿美元，估值超过 10 亿美元，其主张是可以制造一种竞争性的光刻机。另有报道称，在中国的前 ASML 工程师已在一定程度上对这项技术进行了逆向工程，这一前景具有巨大的地缘政治影响。
Christophe Fouquet 于 2024 年在 ASML 任职十多年后出任首席执行官。周二早晨，在他出席 Milken Institute Global Conference 之前，他在比佛利山庄酒店屋顶露台上接受了这位编辑的采访。他穿着蓝色西装和白衬衫，显得很放松——即便谈话转向竞争对手时也是如此。
这次采访为篇幅和清晰度进行了轻微编辑。
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没有，完全没有。我们非常努力地工作，但并不是抱着它会发生的想法。你是从一个概念出发——人们认为它终究会到来——然后到了 ChatGPT，它确实是 AI 能做到什么的第一个真正出色的例子。而现在我认为，我们把 AI 视为下一场革命，不仅是工业革命，也是社会革命。我有没有预见到它的到来？没有。每天身处其中，有时我们早上醒来时仍然会确认，眼前发生的一切是不是真的正在发生。
每个人都在问的一个大问题是，供应链能否跟上需求。它能吗？
需求强到整个市场在相当长一段时间里都会受制于供给。眼下，最大的瓶颈似乎在芯片制造环节。作为设备供应商，我们跟随客户的步伐，到目前为止我们跟得相当不错——但我们知道，我们必须提升整个供应链和产能。如果你和超大规模云厂商交流，我想他们会告诉你，在未来两年、三年，甚至五年里，他们拿不到足够的芯片。
TSMC 最近表示，你们最新的机器太贵了。你如何回应？
如果看价格，一套 EUV 系统确实会比低 NA 系统更贵，但用这台设备在某些先进层制造晶圆的成本会更低。我们可以实现 20%、30% 的成本下降。
[编者注：Fouquet 在这里提到的两种机器都是 EUV 机器——本质上是同一项技术。NA 指数值孔径，是衡量机器将光聚焦到芯片上精细程度的指标。低 NA EUV 是当前一代；高 NA EUV 是 ASML 最新一代，能够打印更精细的图案，但单价高达 3.5 亿美元甚至更高。Fouquet 的观点是，尽管新机器更贵，但它能以更低成本生产芯片。]
我经常被问到，到底是这个月、下个月还是再下个月。我通常会说，这其实并不重要，因为我们为未来 10 年、20 年设计了高 NA。你回头看 2016 年、2017 年的新闻报道，会发现当时也是同样的说法——低 NA EUV 非常昂贵。后来发生了什么，我们都知道。高 NA 也会如此。
有一家名为 Substrate 的初创公司，得到了 Peter Thiel 的支持，声称自己能制造出竞争性的光刻机。你怎么看？
想要拥有它，和真正拥有它——这之间仍然有巨大的差别。光刻面临的挑战很多。能够成像只是起点，但你还必须以极高的数量、极低的成本、高速，并且以纳米级精度来制造这种图像。我总是说，ASML 之所以能造出 EUV 机器，唯一的原因是它的 80% 其实早已存在，是建立在此前积累的知识和多年制造出的产品之上的。我们只需要解决一个问题——获得 EUV 光源——而这一个问题本身就花了 20 年。若从零开始，挑战将极其巨大。我见过很多说法。我也见过一些图片。但我们的第一张 EUV 图片是在 30 年前拍出来的，而我们仍然又花了 20 年艰苦工作，才把它变成一套制造系统。
那 xLight 呢？这是一家部分获得美国政府支持的激光初创公司，想要与你们合作？
xLight 专注于我们 EUV 机器中的一个要素——产生光的光源。我们现有的光源未来很多年都还能继续扩展，而且我们知道如何扩大其规模。xLight 在做的是一种新的光源，但它仍然需要被制造出来并得到验证。唯一的问题是，它是否能相对于我们现有的方案带来性能或成本优势。我认为，目前结论还未见分晓。我们正在与他们合作，让他们能够展示自己的技术——我们觉得这也是我们这边的一项责任。但这仍然是一段非常漫长的旅程。
还有报道称，中国的前 ASML 工程师已经对你们的机器进行了逆向工程。
要逆向工程任何东西，首先得先有那台机器。而中国没有 EUV 机器——我们从未向那里运送过任何设备。我们运出的所有设备，我们都知道它们在哪里。它们要么正在客户那里使用，我们会进行追踪；要么已经被拆解并回到我们这里。认为我们有某套系统在中国的说法完全不对。而且因为我们的 EUV 技术从未出口到那里，我们在中国也没有接受过 EUV 培训的人员。
在很早的时候，当相关限制出台时，我们就在公司内部建立了一个完全隔离的体系，把能够接触 EUV 技术、文件和培训的人，与不能接触的人区分开来。我们在中国的团队处于那条线的另一边。事实表明，进展非常有限，甚至几乎没有进展。人们很难接受这一点，因为接触这项技术实在太重要了。
更广泛地谈到出口管制——黄仁勋昨晚在这里主张，公司应该面向全球销售，这样更多的企业收入就意味着为公司所在国带来更多税收。他还表示，重要的是把最好的、最新的技术留得离本土更近一些。你同意吗？
我认为他完全正确。他补充的内容——我觉得这也是 Nvidia 一直在做的事——是你可以通过保持销售产品的代际差来维持技术优势。Nvidia 销售的是前几代产品，这让他们能够在继续做生意与不向那些你不会出售最新产品的国家交出强大的竞争优势之间找到平衡。我们认为同样的方法也应该适用于我们的产品。今天我们向中国发货的设备——这是出口管制允许的——但那是我们最早在 2015 年发出的工具。如果把黄仁勋的理念应用到我们的处境上，Nvidia 大约保持着八代差距。我们大概只是在两代或三代。这里面有理性化的空间——找到正确的平衡：既不完全不做生意、错失一个重大机会，又不会强烈地邀请别人来与你竞争。
你如何评估在现任政府之下，这一切的现状？
沟通是良好的，这一点非常重要。我认为他们确实理解企业需要什么，但仍然面临如何在各种不同声音和利益之间找到正确平衡的挑战。沟通是存在的，我们对此很感激。我已经多次去过华盛顿。至少讨论是在进行的。但这是一个非常复杂的话题。
你似乎并不担心有人会抄近路复制你的技术。
人们喜欢拥有最先进的技术，但他们往往忘了为此付出了什么代价。这是多年工作的结果——不仅仅是 ASML 自己，还有我们的供应商。许多不同群体的人解决了非常困难的问题，然后由一家公司把这一切汇聚起来，利用数十年的光刻专业知识，把它变成一个制造系统。这绝非易事。我认为这也是我们最好的保护。它本身就是把这一切组装起来所需要付出的东西。
来源与参考
收录于 2026-05-06